レーザーテクが戻り足鮮明、ＡＳＭＬ「高ＮＡ」の採用拡大で受注面での期待が膨らむ

　レーザーテック<6920.T>が急反発。戻り足を鮮明にしている。オランダの半導体製造装置メーカー大手ＡＳＭＬホールディング＜ASML＞は８日、極端紫外線（ＥＵＶ）の露光装置の新型となる「高ＮＡ」機について、台湾積体電路製造（ＴＳＭＣ）＜TSM＞が２０３０年から先端ノード向けの量産で採用する予定だと発表した。現在の６インチマスクの生産から、大型の１２インチマスクに移行。半導体生産の向上に寄与する。また、ＡＳＭＬは韓国のサムスン電子が２８年までに、ＤＲＡＭの量産に向けて高ＮＡのＥＵＶリソグラフィーを導入する計画であるとも発表。更にＡＳＭＬはオランダでの新たな生産拠点の着工も公表している。ＥＵＶマスクの検査装置を手掛けるレーザーテクに対しては、ＡＳＭＬの一連の発表を受けて、中長期的な受注拡大への期待が膨らむ格好となり、物色人気化につながったようだ。

出所：MINKABU PRESS