ＪＸ金属は大幅に３日続伸、韓国での半導体用スパッタリングターゲット加工能力２倍へ

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　ＪＸ金属<5016.T>は３日続伸している。きょう、韓国拠点である韓国ＪＸ金属において約４０億円の設備投資を行い、同拠点における半導体用スパッタリングターゲットの加工能力を２０２５年度比約２倍に引き上げると発表しており、好感した買いが集まっている。稼働は２７年度下期から段階的に実施。今後の需要動向を踏まえながら、更なる生産能力増強も検討する。

出所：MINKABU PRESS

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