レゾナックが3日ぶり反発、高純度フッ化水素ガスの製造体制を強化

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 レゾナック・ホールディングス<4004.T>が3日ぶりに反発している。この日、子会社レゾナックが半導体ウエハーの回路形成(前工程)で使われる「高純度フッ化水素ガス(HFガス)」の製造体制を強化すると発表しており、好材料視されている。26年内に徳山事業所(山口県周南市)で製造を新たに開始し、川崎事業所と合わせた国内2拠点体制にするとしている。

出所:MINKABU PRESS

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