クオルテックは一時Ｓ高、資本・業務提携先がｒ－ＧｅＯ２パワー半導体デバイス実現に前進

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　クオルテック<9165.T>が一時ストップ高まで買われた。同社はきょう、資本・業務提携先である立命館大学発ベンチャー、Ｐａｔｅｎｔｉｘ（滋賀県草津市）がルチル型二酸化ゲルマニウム（ｒ－ＧｅＯ２）単結晶薄膜上に、ショットキーバリアダイオードを形成し、その動作を確認することに成功したことを明らかにした。これはｒ－ＧｅＯ２で実現された世界初の半導体デバイスで、ｒ－ＧｅＯ２パワー半導体デバイスの実現に向けて大きな一歩になるとしていることから、これを材料視した買いが流入したようだ。

出所：MINKABU PRESS

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