レーザーテクが後場上げ幅を拡大、ＥＵＶ露光装置の開発競争巡る楽観が広がる

　レーザーテック<6920.T>が後場に上げ幅を拡大した。米ブルームバーグ通信がこの日、「中国は最先端の半導体製造装置の開発で約１５年遅れている」と、ドイツのツァイス・グループの幹部が指摘したと伝えている。中国が極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置を開発するには、１５年かかるとの見方について、妥当な想定との見解を示したという。これを受け、ＥＵＶ向けのマスク検査装置を手掛けるレーザーテクに対しては、中国勢のキャッチアップが相当先になり、より長く収益を確保できるとの楽観が台頭。報道を手掛かりとした買いが入ったようだ。

出所：MINKABU PRESS